三星晶圆代工关于 1nm 制程节点采用 High NA EUV 的规划梳理

根据公开资料,三星电子计划在 1nm 级工艺制程节点实现 High NA EUV 设备的商业化应用。该信息指出,相较于近期如 2nm 和 1.4nm 等节点,High NA EUV 技术被视为达到更高图案化分辨率的刚需。此外,资料还提及了三星晶圆代工此前设定的 SF1.4 的量产时间点及后续改进计划。

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